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韓國(guó)科研人員利用量子點(diǎn)技術(shù)提高QLED生產(chǎn)工藝

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2022-03-25 來源:科技部合作司瀏覽次數(shù):313
韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院(KAIST)機(jī)械化工系研究團(tuán)隊(duì)成功利用量子點(diǎn)技術(shù)控制“咖啡環(huán)”現(xiàn)象,提高涂層均勻度。
 
由于蒸發(fā)率的不同,咖啡滴在固體表面會(huì)留下中心淺、外圈重的環(huán)裝咖啡斑。這被稱為“咖啡環(huán)”現(xiàn)象。“咖啡環(huán)”現(xiàn)象直接影響到柔性材料涂層均勻度,消除涂層材料的“咖啡環(huán)”現(xiàn)象是生產(chǎn)新一代顯示器性能的核心技術(shù)。研究團(tuán)隊(duì)借助量子點(diǎn)概念調(diào)整了涂層溶劑成分,通過簡(jiǎn)單的蒸發(fā)生產(chǎn)工藝,就成功實(shí)現(xiàn)100微米水平無咖啡環(huán)的均勻噴涂。
 
此項(xiàng)研究不僅解決了柔性材料涂層均勻度的問題,而且提高了生產(chǎn)水平,增加了原材料使用率,降低了生產(chǎn)成本。該研究結(jié)果刊登在《advanced science》上。
 
注:本文摘自國(guó)外相關(guān)研究報(bào)道,文章內(nèi)容不代表本網(wǎng)站觀點(diǎn)和立場(chǎng),僅供參考。
 
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